특 허 심 판 원 제 7 부 심 결

심 판 번 호 : 2014당1060
사 건 표 시 : 특허 제758819호 『고농도,고분산의 자외선 차단 조성물』의 무효
청 구 인 : 주식회사 초이스엔텍
              경기 안양시 동안구 흥안대로427번길 38,1515호 (관양동)
대 리 인 : 변리사 권혁철
              서울 강남구 강남대로94길 67(역삼동)우영빌딩 3층(선린국제특허사무소)
대 리 인 : 변리사 김규동
              서울 강남구 강남대로84길 23,한라클래식 1204호 (역삼동)
              진평국제특허법률사무소 (역삼동)
피청구인 : 주식회사 케미랜드
               경기 평택시 서탄면 수월암5길 77
대 리 인 : 변리사 류창희, 이덕록, 구창모
              서울 강남구 논현로94길 13,예일패트빌딩 (역삼동) 예일국제특허법률사무소
심 결 일 : 2015.11.6

주 문

1.이 사건 심판청구를 기각한다.
2.심판비용은 청구인이 부담한다.

청 구 취 지

1.등록특허 제758819호는 그 등록을 무효로 한다.
2.심판비용은 피청구인의 부담으로 한다.

이 유

1.기초사실
가.절차의 경위
① 발명의 명칭 :고농도,고분산의 자외선 차단 조성물
② 출원일/출원번호 :2005.12.2./제10-2005-116855호
③ 등록일/등록번호 :2007.9.10./특허 제758819호
④ 무효심판 청구 :2014.5.8.
나.이 사건 특허발명의 특허청구범위(갑 제2호증)
청구항 1.10내지 20nm의 평균입경을 갖는 이산화티탄 분말을 분산질로 하고, 분산매로서 시클로펜타실록산을, 그리고 분산제로 피이지-10디메치콘을 사용하되, 5내지 10중량%의 분산제, 30 내지 70중량%의 분산질 및 잔량으로서 분산매를 포함하여 이루어지며, 상기 분산질을 비드밀을 사용하여 800내지 1,200RPM의 속도에서 분산시켜서 이루어짐을 특징으로 하는 고농도,고분산의 자외선 차단 조성물.
청구항 2.제 1항에 있어서,상기 분산질은 그 결정형이 루틸형이고,66내지 71㎠/g의 비표면적, 6내지 8.5%의 유기물함량 및 73내지 83%의 이산화티탄 함량을 갖는 초미립의 이산화티탄임을 특징으로 하는 고농도, 고분산의 자외선 차단 조성물.
청구항 3.제 1항에 있어서,상기 분산질은 Al2O3 또는 SiO2 13내지 17중량%로 표면처리되고, 실리콘오일 6내지 10중량%로 표면처리된 초미립의 이산화티탄임을 특징으로 하는 고농도, 고분산의 자외선 차단 조성물.
청구항 4.제 1항 내지 제 3항들 중의 어느 한 항에 있어서, 사용감 향상제로서 헥실라우레이트 5내지 10중량%를 더 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 고농도, 고분산의 자외선 차단 조성물.
다.비교대상발명
(1)비교대상발명 1(갑 제4호증)
비교대상발명 1은 2003.12.4.공개된 미국 공개특허공보 제2003/0223940호에 게재된 ‘입자형 금속 옥사이드’라는 명칭의 발명으로, 주입자(primaryparticle)의 평균 길이가 50내지 90nm이고 평균 폭이 5내지 20nm이며 부입자(secondary particle)의 부피지름이 45nm 이하인 금속 옥사이드 입자를 개시하고 있다. 이러한 입자는 효과적인 자외선 차단 및 개선된 투명성을 가지는 선스크린제로 사용될 수 있다고 기재되어 있다(갑 제4호증 초록 등 참조). 또한 금속 옥사이드 입자가 무기 또는 유기 코팅제로 코팅될 수 있고(갑 제4호증 식별번호 [0028]참조), 식물성 오일 등 다양한 유기 물질이 분산매로 사용될 수 있으며(갑 제4호증 식별번호 [0035]~[0037]참조), 분산제를 포함할 수 있다는 기재도 있다(갑 제4호증 식별번호 [0038]참조).
(2)비교대상발명 2(갑 제5호증)
비교대상발명 2는 2004.공개된 23차 국제화장품학회 발표 자료에 기재된 발명으로, 자외선 차단 효과가 좋고 피부 백탁 효과는 낮은 최적의 마이크로피그먼트를 개시하고 있다. 분산매로 사이클로펜타실록산, 분산제로 피이지-10디메치콘을 포함하는 자외선 차단용 조성물이 개시되어 있고(갑 제5호증 표 1 참조), 초미립화된 이산화티탄 또는 산화아연을 포함하는 자외선 차단 조성물이 자외선 차단 효과가 우수하고 백탁현상도 감소되었다고 기재되어 있다(갑 제5호증 10.결론 참조).
2.당사자의 주장
가.청구인의 주장
(1)이 사건 특허발명의 구성은 비교대상발명 1또는 2에 그대로 개시된 것이어서 구성의 곤란성이 없으므로,이 사건 특허발명은 당업자가 비교대상발명 1과 2로부터 용이하게 발명할 수 있는 것이다.
(2)이 사건 특허발명의 상세한 설명에는 이 사건 특허 발명에 해당하는 평균입도가 20~ 30nm인 이산화티탄이 기술적 과제 해결에 적합하지 않은 것으로 기재되어 있으므로, 이 사건 제1항 발명은 발명의 상세한 설명에 의하여 뒷받침되지 않는다.
나.피청구인의 주장
(1)이 사건 특허발명의 진보성이 인정되어야 한다.
이 사건 특허발명은 이산화티탄이 고농도로 고분산된 자외선 차단용 화장료 조성물을 제공하는 것인데,비교대상발명 1에는 고분산 효과에 대하여 아무런 암시나 교시가 없고, 이 사건 특허발명과 같은 적절한 분산매, 분산제, 분산 공정과 그 최적 배합비에 관한 내용이 없으며, 비교대상발명 2의 조성물도 분산질이 19.1%에 불과하고 가온공정을 수반하는 점에서 이 사건 특허발명과 차이가 있다. 또한 이 사건 특허발명은 고농도의 이산화티탄에 의하여 자외선 차단 지수가 우수하고 분산물의 품질이 우수하다.
(2)이 사건 제1항 발명은 상세한 설명에 의하여 뒷받침된다.
이 사건 특허발명의 상세한 설명에 적합한 조성물로 기재된 조성물은 평균입도 14nm의 이산화티탄을 포함하고 있고, 이 사건 특허발명은 입도 20~30nm의 이산화티탄을 포함하는 경우에 까지 권리가 미치지 않으므로,발명의 상세한 설명으로부터 뒷받침되는 것이다.
3.이해관계
청구인은 이 사건 특허발명과 동종업에 해당하는 화장품 원료의 판매에 종사하고 있는 자임을 제출한 사업자등록증(갑 제3호증 참조)으로부터 확인할 수 있는바, 청구인은 이 사건 특허발명의 존속 여부에 대해 중대한 이해관계를 가지고 있다 할 것이므로, 이 사건 심판청구는 이해관계인에 의한 적법한 청구로 인정된다.
4.판단
가.이 사건 특허발명의 진보성이 부정되는지 여부
(1)이 사건 제1항 발명의 진보성이 부정되는지 여부
(가)기술분야 및 목적 대비
이 사건 제1항 발명은 고농도, 고분산의 자외선 차단 조성물에 관한 것으로, 자외선 차단 기능을 하는 초미립의 분산질이 고농도로 포함되어 자외선 차단 영역이 넓으면서도 고농도에 따른 응집, 그에 따른 상분리 또는 백탁현상 등이 억제된 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다(갑 제2호증 식별번호 <6>및 <0010>참조).
비교대상발명 1및 2도 자외선 차단제에 관한 것으로,자외선 차단 효과가 우수하고 투명한 제품을 제공하고자 하는 것이다(갑 제4호증 초록 및 갑 제5호증 서론 참조) 따라서 이 사건 제1항 발명과 비교대상발명들은 그 기술분야와 발명의 목적이 공통된다.
(나)구성 대비
먼저,이 사건 제1항 발명의 구성을 분산질,분산매,분산제 및 분산방법으로 나누어 비교대상발명들과 대비한다.
1)비교대상발명 1과 대비
① 분산질
이 사건 제1항 발명의 자외선 차단 조성물에 함유된 분산질은 ‘10내지 20㎚의 평균입경을 갖는 이산화티탄 분말 30내지 70중량%’이다. 이에 대응하여,비교대상발명 1에는 ‘길이 50~90nm,폭 5~20nm의 이산화티탄 분말’이 기재되어 있고(갑 제4호증 식별번호 [0014]참조), 그 함량에 관한 구체적인 수치 범위는 기재된 바 없으며,이산화티탄 분말이 0.1g/ml의 농도로 분산된 분산액을 1:19로 더 희석한다고 기재되어 있다(갑 제4호증 식별번호 [0074]참조). 따라서 이 사건 제1항 발명의 분산질과 비교대상발명 1의 대응구성은 이산화티탄 분말을 사용한다는 점에서는 공통되지만, 이산화티탄 분말의 입자 크기에 차이가 있고, 이 사건 제1항 발명은 30내지 70중량%의 고농도의 분산질을 포함하는 것인데 비하여 비교대상발명 1은 최종 1:20,000으로 희석된 저농도의 분산질을 포함하는 점에서 차이가 있다.
② 분산매
분산질을 분산시키는 데 사용되는 분산매를 대비하면, 이 사건 제1항 발명의 분산매는 시클로펜타실록산이고, 그 대응 구성으로 비교대상발명 1은 분산매로 수백 가지 종류의 용매를 나열하면서 시클로펜타실록산을 언급하고 있을 뿐이며(갑 제4호증 식별번호 [0037]참조), 저농도의 이산화티탄 분말을 시클로헥산에 분산시킨 실시예를 개시하고 있다(제4호증 식별번호 [0074]참조).
즉, 비교대상발명 1에 이산화티탄 분말의 저농도 분산액의 분산매로 시클로헥산을 분산매로 사용한 조성물은 기재되어 있으나,이산화티탄의 고농도 분산을 위한 분산매로서 시클로펜타실록산은 개시되어 있지 아니하다.
③ 분산제
이 사건 제1항 발명의 분산제는 ‘피이지-10디메치콘 5내지 10중량%’이고, 이에 대응하여 비교대상발명 1에는 분산제가 1내지 50% 포함될 수 있다고 기재되어 있다(제4호증 식별번호 [0038]참조). 그런데 비교대상발명 1에는 분산제의 종류로 ‘치환된 카르복실산’, ‘비누 기제’ 및 ‘폴리하이드록시 산’이 기재되어 있을 뿐이고(제4호증 식별번호 [0039]참조), 오히려 피이지-10디메치콘은 분산매로 개시되어 있으므로(제4호증 식별번호 [0039]참조), 비교대상발명 1이 분산제로 ‘피이지-10디메치콘 5내지 10중량%’의 구성을 시사하거나 암시하고 있다고 할 수도 없다.
④ 분산방법
이 사건 제1항 발명은 ‘분산질을 비드밀을 사용하여 800내지 1,200RPM의 속도에서 분산’시켜 제조되는 것이고, 비교대상발명 1에서는 이산화티탄을 분산제와 혼합하는 단계에서 비드밀을 1,500RPM으로 작동시키고,최종 분산액은 이산화티탄과 분산제의 분산물을 분산매로 희석하여 얻었다고 기재되어 있다(갑 제4호증 식별번호 [0074]참조).
그런데, 이 사건 특허발명의 상세한 설명에 기재된 분산방법을 살펴보면 “본 발명의 개발을 위한 분산 장비로는 유화장치를 이용한 1차 분산과 비드밀을 이용한 2차 분산으로 진행하였다. 1차 분산공정에서는 분산매와 분산제의 혼합과 이산화티탄분체의 혼합을 목적으로 진행하였으며, 2차 분산은 고 에너지의 비드밀을 이용하여 응집되어있는 이산화티탄 입자들의 분산과 분산매,분산제 및 이산화티탄 간의 안정적인 분산물을 만드는데 목적을 두었다”라고 기재되어 있어서(갑 제2호증 식별번호<145>),이 사건 제1항 발명에서 비드밀은 분산질,분산제 및 분산매를 모두 포함하는 용액에 적용되는 것이고, 최종 분산액을 얻는 단계에서 사용되는 것임을 알 수 있다. 따라서 이 사건 제1항 발명과 비교대상발명 1에서 비드밀을 적용하는 단계에 차이가 있다.
2)비교대상발명 2와 대비
① 분산질
비교대상발명 2에는 주입자의 크기가 10 nm인 이산화티탄 또는 주입자 크기가 20nm의 산화아연을 포함하는 분산액이 기재되어 있는데, 이산화티탄을 32%의 함량으로 포함하는 분산액도 기재되어 있어서, 이 사건 제1항 발명의 분산질에 관한 구성은 비교대상발명 2와 동일하다.
② 분산매 및 분산제
비교대상발명 2에서 이산화티탄 32%을 분산시키기 위하여 사용한 분산제와 분산매는 각각 폴리하이드록시스테아린산과 C12-15알킬벤조에이트로 이 사건 제1항 발명과 상이하고, 그 함량도 알 수 없다.
비록, 비교대상발명 2에는 분산매인 시클로펜타실록산과 분산질인 피이지-10디메치콘을 포함하는 자외선 차단용 조성물도 개시되어 있으나, 그 조성물에 함유된 분산질은 25nm 크기의 산화아연을 포함하는 것이거나 10nm 크기의 이산화티탄을 19.1%의 낮은 함량으로 포함하는 것이다(갑 제5호증 제1면 3.GrindingofPigment의 표 참조)
즉, 비교대상발명 2는 10내지 20㎚의 평균입경을 갖는 산화티탄을 30내지 70중량%의 고함량으로 포함하는 조성물에 대하여 시클로펜타실록산을 분산매로 사용하고, 5내지 10중량%의 디메치콘을 분산제로 사용하는 조성물을 개시하고 있지 않다.
③ 분산 방법
비교대상발명 2에는 입자와 분산제를 혼합하여 100~110℃에서 3 시간 가열한 후, 분산매를 가하여 밀링한다고 기재되어 있고(갑 제5호증 제1면 2.Experimental의 항목 2.참조), 밀의 종류와 회전속도에 관한 사항은 기재되어 있지 않은 점에서 이 사건 제1항 발명의 분산 방법과 차이가 있다.
3)구성 결합의 용이성 및 효과
앞의 구성 대비 1)및 2)항목에서 살핀 바와 같이, 비교대상발명 1및 2에는 이 사건 제1항 발명의 구성인 분산질,분산매 및 분산제의 종류가 개별적으로 개시되어 있을 뿐이고, 이 사건 제1항 발명의 분산질,분산매 및 분산제를 모두 포함하는 조성물은 개시되어 있지 아니하며, 분산질과 분산제의 함량 및 구체적인 분산방법에도 차이가 있으므로, 아래에서는 통상의 기술자가 이 사건 제1항 발명의 분산질, 분산매, 분산제 및 분산방법의 결합을 도출하는 것에 어려움에 있는지 여부를 살핀다. 이 사건 제1항 발명의 자외선 차단 조성물은 입자인 분산질에 분산제를 부가하고 물리적인 힘을 가하여 분산매에 분산시켜 이루어지는 것으로 분산된 입자가 균일하게 분산된 상태로 유지되어야 하는데, 이러한 분산액의 분산성 및 안정성은 분산질, 분산매 및 분산제의 종류와 함량에 따라 크게 달라지고, 그 분산을 위하여 적용되는 물리적인 제조방법도 최종 얻어진 분산액의 성질에 상당한 영향을 미친다는 것이 해당 기술분야에 잘 알려져 있다.
따라서 이 사건 제1항 발명의 자외선 차단 조성물은 분산질인 ‘10내지 20㎚의 평균입경을 갖는 이산화티탄 분말 30내지 70중량%’, 분산매인 시클로펜타실록산, 분산제인 ‘피이지-10디메치콘 5내지 10중량%’ 및 ‘분산질을 비드밀을 사용하여 800내지 1,200RPM의 속도에서 분산시키는’ 방법이 모두 결합된 것이고,그 성질과 효과는 위 구성들이 유기적으로 결합되어 나타나는 것이라고 할 것인데, 이 사건 제1항 발명의 분산질, 분산매, 분산제 및 제조방법은 응집이나 상분리가 일어나지 않는 물질과 함량의 조합을 선택한 것이어서 분산 안정성이 있고(갑 제2호증 식별번호 <127> 내지 <153> 참조), ‘-5℃ 24시간 -25℃ 24시간 -40℃ 24시간’을 유지하는 온도사이클링 후에도 분산체가 분리되지 않아 온도 변화에 따른 상안정성도 우수하다는 것을 알 수 있다(갑 제2호증 도 4참조).
즉, 이 사건 제1항 발명은 자외선 차단 영역이 넓어 우수한 자외선 차단 기능을 갖도록 고농도의 이산화티탄 입자를 포함하면서도, 분산질이 고농도인 것에 따라 나타날 수 있는 응집 현상을 억제시킨 안정한 조성물이고,이러한 안정한 고농도의 분산액을 얻기 위하여 분산질, 분산매 및 분산제의 종류를 선택하고 그 함량을 조절하며, 적절한 분산방법을 적용함으로써 이 사건 제1항 발명의 조합된 구성에 이른 것이므로, 통상의 기술자가 비교대상발명 1,2로부터 이 사건 제1항 발명의 구성을 쉽게 도출할 수 있다고 할 수 없다.
또한, 이 사건 제1항 발명은 백탁 현상이 방지되는 효과를 가지고 있고(갑 제2호 증 표 7참조), 시간에 따른 점도의 변화도 나타나지 않으며(갑 제2호증 도 2참조), 사용감이 우수하므로(갑 제2호증 표 10및 표 18참조), 이러한 다양한 효과를 종합적으로 고려하여 볼 때,이 사건 제1항 발명의 효과는 현저히 우수하다고 할 것이다.
따라서, 이 사건 제1항 발명은 통상의 기술자가 비교대상발명 1,2로부터 쉽게 발명할 수 없는 것이다.
4)청구인 주장에 대한 검토
청구인은 이 사건 제1항 발명의 개별적 구성이 비교대상발명 1또는 2에 기재되어 이 사건 제1항 발명의 구성을 비교대상발명 1, 2로부터 쉽게 도출할 수 있다고 주장하고 있다.
그러나 개별적인 구성이 공지된 것만으로 그 구성들을 결합하는 것까지 당연히 용이하다고 할 수 없고, 그 구성도출의 용이성 여부는 그 결합된 구성 전체로서 판단하여야 할 것인데, 앞서 살핀 바와 같이 이 사건 제1항 발명은 그 구성 전체가 유기적으로 결합되어 우수한 효과를 나타내는 것이다.
특히, 입자가 분산된 분산액에서,그 분산액을 이루는 분산질, 분산제, 분산매 등의 물질이 공지되었다고 하더라고 분산질의 입자 크기와 함량, 분산매의 함량 등을 한정하고, 그러한 구성들을 단순히 결합하여 통상의 기술자 쉽게 자외선 차단 효과와 안정성이 우수한 고분산 자외선 차단 조성물을 얻을 수 있다고 할 수 없다.
따라서 통상의 기술자가 이 사건 제1항 발명의 구성을 쉽게 도출할 수 있다는 청구인의 주장은 받아들일 수 없는 것이다.
(2)이 사건 제2항 내지 제4항 발명의 진보성이 부정되는지 여부
이 사건 제2항 내지 제4항은 이 사건 제1항을 인용하는 종속항들로서, 이 사건 제1항 발명이 비교대상발명 1및 2에 의해 통상의 기술자가 용이하게 발명할 수 없는 이상 이를 한정하거나 부가하여 구체화하는 종속항들인 이 사건 제2항 내지 제4항은 더 나아가 살펴볼 필요 없이 통상의 기술자가 용이하게 발명할 수 없는 것이다.
나.이 사건 제1항 발명이 발명의 상세한 설명에 의하여 뒷받침되지 않는지 여부
청구인은 이 사건 제1항 발명의 ‘10내지 20㎚의 평균입경을 갖는 이산화티탄’이라는 구성이 이 사건 특허발명의 기술적 과제 해결에 적합하지 않은 ‘평균입도 20~30nm의 입자’를 포함하는 것이어서 상세한 설명에 기재된 발명의 공헌도에 비추어 지나치게 넓은 경우에 해당한다고 주장하므로 이에 대하여 살핀다.
이산화티탄 입자의 크기에 관하여 이 사건 특허발명의 상세한 설명에 기재된 내용을 살펴보면, ‘평균입경 20~30nm’인 이산화티탄 입자를 포함하는 조성물에서는 상분리가 일어나는데, 제품성적서의 평균입경은 14nm이고 실측된 입경은 ‘10~ 20nm’인 입자를 사용한 조성물은 상분리가 일어나지 않는 적합한 원료라는 것을 알 수 있다(갑 제2호증 표 9참조).
그런데, 해당 기술분야에서 수많은 입자로 이루어진 입자군에서 입자의 크기는 주입자의 크기를 의미한다는 점을 고려하여 볼 때,통상의 기술자라면 이 사건 특허발명의 상세한 설명에 기재된 ‘제품성적서의 평균입경이 14nm이고 실측된 입경은 10~20nm인 입자’를 ‘입경의 평균이 10내지 20nm의 범위 내에 있는 입자군’이라고 인식할 것이고, ‘10~ 20nm의 평균입경을 가지는 입자’는 ‘20~ 30nm의 범위의 평균입경을 가지는 입자’보다 주입자의 크기가 작은 것으로서 통상의 기술자가 두 입자군을 쉽게구분할 수 있다고 인정된다.
또한, 이 사건 제1항 발명의 ‘10내지 20nm의 평균입경’은 이 사건 특허발명에서 실측한 입자크기에 근거한 것으로 인정되므로,이 사건 제1항 발명은 상세한 설명에 기재된 발명의 공헌도에 비추어 지나치게 넓은 경우라고 할 수 없다.
즉, 이 사건 제1항 발명은 발명의 상세한 설명에 의하여 구체적으로 뒷받침되는 것으로 인정된다.
다.소결
이 사건 특허발명은 비교대상발명 1, 2로부터 쉽게 발명할 수 없는 것이고, 그 기재가 불비하지도 않으므로, 그와 같은 이유로 무효되어야 한다는 청구인의 주장은 모두 이유 없다.
5.결론
그러므로 이 사건 심판청구를 기각하고,심판비용은 청구인이 부담하기로 하여 주문과 같이 심결한다.

심판장 심판관 주영식
주 심 심판관 김경미
심판관 김재현